GEN-CU207

护铜有机保焊膜

护铜有机保焊膜 GEN-CU207 通过在裸铜表面化学生成一层 0.2-0.5μm 的有机膜(唑类保护膜),起到防氧化、耐热冲击和抗湿性作用,确保电路板在组装前不氧化,焊接时可被焊剂迅速清除,具有低成本、平整度高、环保无铅等突出优点。

铜面抗氧化与可焊保护
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产品详情

功能特点:

通过在裸铜表面化学生成一层0.2-0.5 微米的有机膜(主要为唑类),起到防氧化、耐热冲击和抗湿性,确保电路板在组装前不氧化,并确保焊接时可被焊剂迅速清除,具有低成本、平整度好等优点。


GEN-CU207 的工作原理是在洁净的铜表面通过化学吸附形成一层极薄的有机保护膜(主要为苯并咪唑类或苯并三唑类化合物),这层膜能够有效阻断氧气和湿气与铜面的接触,防止铜面氧化或硫化。

膜层均匀、可焊性好、耐热冲击性强、环保无铅。符合RoHS无铅环保要求,成本较低,表面非常平整(适用于细间距元件),与铜面结合牢固。可以保护铜表面发生氧化或硫化的作用,在后续的高温焊接中,很容易地被助焊剂所迅速清除,露出干净的铜表面在极短时间内与熔融焊锡结合成为牢固的焊点。。产品完全符合 RoHS 无铅环保要求。


应用范围:

用于PCB板的最终表面处理,保护焊盘,便于后续焊接。广泛应用于手机、电脑主板、高密度芯片封装基板等消费电子中。


产品特性


  • 膜层均匀致密:0.2-0.5μm 厚度精确可控
  • 可焊性卓越:焊接时被焊剂迅速清除
  • 耐热冲击性好:多次回流焊后仍保持优异性能
  • 表面平整度高:适用于细间距和 BGA
  • 环保安全:符合 RoHS 要求
  • 低成本方案:相对于沉金方案成本优势明显
Technical Data Sheet

公开技术资料

版本:2026-08-web
更新:2026-09-19

产品定义与适用范围

GEN-CU207是用于PCB和FPC裸铜焊盘及铜线路表面终饰的有机保焊膜(OSP),在清洁、均匀活化的铜面形成可焊性保护膜,降低周转、存放和组装前的氧化风险。

主要特点

  • 适用于经验证的刚性板、柔性板及裸铜表面。
  • 保护膜需与助焊剂、回流条件和焊接次数共同验证。
  • 成膜均匀性高度依赖除油、微蚀、活化、水洗和干燥。

推荐流程

清洁/脱脂 → 水洗 → 微蚀 → 水洗 → 酸活化 → 水洗 → OSP处理 → 纯水洗 → 干燥 → 检验与包装。

项目初始窗口
处理温度40-45℃
处理时间60-90秒
pH3.1-3.3(20℃)
微蚀量约0.5-1.0 μm
干燥80℃约30秒,按板材和设备验证

管理、验证与边界

开线前确认液位、温度、pH、有效成分和溶解铜处于已验证范围,防止前段药液和污染物带入。建议验证外观、膜层均匀性、可焊性、存放周期和回流条件。本资料不默认承诺固定盐雾时间、双85条件、保存期限或回流次数。

常见问题

OSP正常为什么仍会不上锡?

还需检查铜面前处理、存储污染、助焊剂匹配和回流曲线。膜层外观不能替代润湿和焊点可靠性验证。

本资料用于公开说明产品用途与一般工艺建议。实际使用条件受基材、设备和制程影响,导入前应结合现场条件进行验证。

这个产品对应哪些实际问题

先进入对应方案完成原因判断和验证设计,再决定产品是否适用。

裸铜 / 氧化 / 拒焊

铜面抗氧化与可焊保护解决方案

解决裸铜储存氧化与后续焊接之间的矛盾:保护膜既要降低氧化风险,也不能成为润湿和电接触障碍。

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相关问题与验证资料

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